多孔SiC薄膜的制备及孔径调控文献综述

 2021-12-27 20:48:32

全文总字数:5009字

文献综述

文 献 综 述一.题目:多孔SiC薄膜的制备及孔径调控二.课题的目的与意义:近年来,随着电子化、信息化的快速发展,作为信息传播重要载体的电磁波已经深入到民用及军事的各个方面,应用广泛,给我们的生活带来了很多便利,也促进了各国军事的发展,但是随着雷达探测系统、精确制导技术的迅猛发展与应用,大型航空飞行器或装备系统在使用时将面临极大的威胁。

吸波材料是一种可以有效损耗掉入射到其表面的电磁波的材料。

在国防军事领域,通常将吸波性能良好的材料以涂层形态用于武器装备表面,以减弱目标向外界发散的雷达特征与红外线等,使敌军难以检测到目标,这对提高目标的生存和防御能力具有重要意义。

因此,为了更好地建设发展我国的国防事业,必须加速对这种隐身材料的深入研究与广泛应用。

传统磁性吸波材料具有密度大、有效吸波频带窄、耐温及耐腐蚀性差等问题,无法满足装备在条件苛刻的环境下长期服役的要求。

而碳化硅作为第三代半导体材料,具有禁带宽度大、热导率高、抗辐射能力强、高温稳定性好、密度小、力学性能优异、抗腐蚀能力强等优良特性[1],能够在高温高压等较恶劣条件下工作,因此成为少数在国内外迅猛发展的吸波材料之一,愈发得到国防军事及航空航天领域的重视[2]。

厚度约为1~10微米的碳化硅薄膜不仅具有附着力强的特点,在高温、强腐蚀性环境下仍然拥有优异的力学性能,可以用作保护层[3],所以其应用也日益渐增。

本课题将通过调节多孔碳化硅薄膜的孔径等措施,来制备具有吸波性能可调、耐高温耐腐蚀等优良特性的多孔碳化硅吸波材料。

三.研究进展: (1)SiC涂层的研究进展近年来,人们已对SiC材料的制备、结构和器件应用进行了广泛深入的研究。

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