缺陷对二维材料Fe3GeTe2电磁学性质的影响文献综述

 2021-10-23 21:40:58

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文 献 综 述1. 前言随着现代通信及计算技术的高速发展,人们对电磁学器件的要求越来越高。

而电磁学器件的发展很大程度上依赖于工艺与材料的突破,其中特别是对磁性薄膜材料的基础研究。

这些需求已经使自旋电子学领域有了革命性的进展。

为了获得具有广泛应用前景且更高性能的电磁学器件,对于新型的磁性薄膜材料的研究是非常重要的课题。

而Fe3GeTe2(FGT)作为二维层状铁磁金属化合物,它也可被认为是厚度超薄的薄膜。

因其具有更接近室温的居里温度,并且是在Fe-Ge-Te系统中具有铁磁磁序的罕见例子,因此成为目前研究的热点。

1988和1995年巨磁电阻效应(GMR)和室温穿隧磁电阻效应(TMR)相继发现后,巨磁电阻和穿隧磁电阻材料遂成为磁学、磁电子学、磁记录材料、磁异质结构材料等领域的研究热门重点[1]。

产生巨磁电阻效应(GMR)的磁性多层膜的最简单的结构为铁磁性膜/非磁性金属膜/铁磁性膜,称作三明治结构;产生穿隧磁电阻效应(TMR)的磁隧道结的最简单结构为铁磁性膜/绝缘膜/铁磁性膜[2]。

当上下两个铁磁性膜的磁矩分别处于平行或反平行状态,且有电流通过磁性多层膜或磁隧道结时,它们就分别表现出低的和高的电阻态,这种低和高电阻态可对应于0和1两种数据记录状态。

因此GMR和TMR新材料及其磁敏感器件可应用于磁读取头和磁随机内存(MRAM)等领域,能把磁记录密度提高到100Gits/in2水平。

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