文献综述
文 献 综 述1.概述1.1嵌段共聚物的定向自组装 1.1.1光刻技术简介 光刻技术是在集成电路制造中利用光学化学反应和化学、物理刻蚀方法,将电路图形传递到单晶表面或介质层上来形成功能图形的工艺技术。
纳米技术的发展离不开我们对于高分辨率光刻技术的不断探索[1]。
特别是面对微电子工业领域向小尺寸、高密度方向发展的趋势,传统的自下而上方法如光刻蚀、电子术刻或微压印技术等已不能满足人们的需求,新兴的自下而上方法如分子自组装技术等突破了传统的局限,能够在分子尺寸上构筑纳米器件,日益受到重视[2]。
1.1.2 嵌段共聚物定向自组装的优缺点嵌段共聚物(BCP)由两个(或更多)化学性质不同的聚合物嵌段自发自组装形成纳米级周期性结构,称为微相分离结构,具有各种形态,如球形、圆柱形、回旋状和片状,在体状和薄膜状;这些结构可用作微电子模板、纳米多孔膜、和无机材料。
导向自组装是一种将光学光刻与嵌段共聚物在薄膜中的自组装结合起来的技术,可以用来形成纳米尺度的线空间图案。
导向自组装技术对图形模板有很高的要求,先通过光刻技术制得模板,嵌段共聚物薄膜在模板表面的几何控制或化学诱导下通过微相分离实现自组装,从而得到有序的微相结构,最后再通过选择性地去除其中一相得到纳米图形[3, 4]。
导向自组装方法通过对微相结构的裁剪、表面修饰和尺寸控制,可以得到特征尺寸更小、密度更大、有序性更好的纳米图形。
与其他 自下而上的技术相比,通过对嵌段共聚物不同嵌段的选择性刻蚀可以满足更多实际的需要。
通过导向图形模板的制备可以更加精确地控制自组装区域的位置和大小[5]。
与传统光学光刻技术相比,导向自组装的方法可以以更简单的过程、更低廉的成本得到特征尺寸更小的纳米图形。
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