靶电流对多弧离子镀TiN镀层微观结构和性能的影响文献综述-文献综述网

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文献综述靶电流对多弧离子镀TiN镀层微观结构和性能的影响1. 前言多弧离子镀作为离子镀的改进方法，在80年代初由美国Multi-Arc公司首先将此技术实用化，而TiN薄膜以其优良的性能更是受到各行各业青睐[1]。

离子镀技术是在真空镀膜，真空溅射基础上开发出来的新型薄膜制备技术。

多弧离子镀是离子镀改进的一种方法，它把弧光放电作为金属蒸发源的表面涂层技术。

多弧离子镀技术具有镀膜速度高，膜层的致密度大，膜的附着力好等特点，使多弧离子镀镀层在工具、模具的超装饰镀膜等领域的应用越来越广泛[1]。

采用多弧离子镀的方法在基体表面制备一层薄膜,可以在减少摩擦的同时，提高零部件或工具的使用寿命。

20世纪80年代以来，离子镀制备TiN 镀层已发展成为世界范围的一项高新技术，主要应用在制备高速钢和硬质合金工具上的或相关体系的耐磨镀层和不锈钢制品上的仿金装饰镀层上。

进入20世纪90年代，离子镀有了长足的进步，在离子镀技术中目前应用最多的是电弧离子镀(也称多弧离子镀)，它已取代了其他各种类型的离子镀，成为当前氮化钛镀层工业唯一的生产工艺。

多弧离子镀无污染有普通电镀无法企及的技术高度。

除了合金，多弧离子镀还可以运用于活泼技术如钛，铝等之上。

离子镀工艺可镀性极好，镀材和基体限制少，在各行各业中运用比例越来越多。

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