摘要
纳米薄膜作为现代材料科学的重要组成部分，其厚度是影响其物理化学性质的关键因素之一。
精确测量纳米薄膜厚度在半导体制造、光学器件、生物医药等领域具有重要意义。
白光干涉法作为一种非接触、高精度、快速的光学测量技术，在纳米薄膜厚度测量中展现出巨大潜力。
本文综述了白光干涉法测量纳米薄膜厚度的原理、研究现状、主要研究方法以及应用，并探讨了该技术的优势和局限性，展望了未来的发展方向。
关键词：纳米薄膜；厚度测量；白光干涉法；光学测量；非接触测量
纳米薄膜是指厚度在纳米尺度（1-100nm）的薄膜材料，它具有一系列独特的物理化学性质，如量子尺寸效应、表面效应、宏观隧道效应等[1]。
这些特性使得纳米薄膜在微电子、光电子、传感器、催化剂、生物医学等领域具有广泛的应用前景[2-4]。
薄膜的厚度是决定其性能的关键参数之一。
例如，在半导体芯片制造中，栅氧化层的厚度直接影响晶体管的开关速度和功耗；在光学薄膜中，薄膜厚度决定了其反射率、透射率和偏振特性[5]。
因此，精确测量纳米薄膜厚度对于控制薄膜生长过程、优化器件性能至关重要。
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