酞菁铜薄膜的制备与表征
摘要：酞菁铜（CuPC）因其灾胞膜制备方面优异的物理、化学性质被人们广泛的应用和研究，但在此过程中仍有很多问题亟待解决。其中就包括采用更为简易的工艺获得高质量、性能良好的CuPC薄膜这一问题。本论文将探究在不同制备条件下CuPC薄膜的生长情况，用有机物蒸发方法在具有光学平整度的片状ITO和SiO2生长CuPC膜。并在此基础上，开展CuPC薄膜的形态观察。
关键词：酞菁铜； 形貌； CuPC薄膜；有机物蒸发镀膜系统
一、文献综述
酞菁铜的发现是在20世纪30年代，1927年瑞士化学家Diesbach等将邻苯二腈与溴化铜在一起加热时。意外地发现了酞菁铜这个蓝色的化合物。由于这种化合物对浓酸、浓碱和高温具有惊人的稳定性，从而引起了人们的注意。第一个关于酞菁铜化合物的专利是在1929年公布的 。
结构
酞菁铜分子几何构型。酞菁铜分子有57个原子。中心元素为铜离子，具有D对称性，并有中心对称的二维共轭电子结构。
性质及应用
酞菁铜的结构及其能级特点决定了它具有很多优良的功能特性。这些性质已经或将在很多领域中得以广泛的应用，如利用它的光电导性可以制备出性能优良的液晶光阀。利用气敏性可制备出灵敏的气体传感器。利用酞菁铜的光伏效应可制备出性能稳定、廉价的太阳能电池等等。
主要用途
主要用于油墨、涂料、塑料、橡胶和文教用品的着色。
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